27 Jun 2007
羅門哈斯擴大其IC1000™ 研磨墊產品線 – 為企業量產提供各種先進技術設備
新型 IC1000 AT低缺陷率研磨墊及 IC1000 AT長壽命研磨墊可滿足各類半導體設備製造商不斷變化的生產需求
中國上海 — 2007年6月27日 — 在全球半導體行業化學機械研磨（CMP）技術及創新方面處於領先地位的羅門哈斯電子材料公司CMP技術事業部近日宣佈其IC1000研磨墊產品線又增添了兩大生力軍。這兩款新品應用了先進的溝槽技術，可有效降低量產缺陷率和設備擁有成本。
IC1000 AT低缺陷率研磨墊（IC1000 AT Defect Reduction Pad） 採用已獲專利的新型溝槽設計。該技術是對晶圓級和溝槽級流體力學原理的最佳應用，可有效減少產品缺陷率。常數區溝槽可消除晶圓所承受的局部壓力，最大程度地減少晶圓被劃傷或產生缺陷的可能性，在200及300毫米平臺作業時最高可降低50％的缺陷率。IC1000 AT低缺陷率研磨墊專為無意改變研磨墊材料，但對降低產品缺陷率有迫切需求的客戶設計。
IC1000™ AT長壽命研磨墊（IC1000™ AT Long Life Pad）可有效降低設備擁有成本，延長工具的正常運行時間。該研磨墊經過特別設計，硬度適中，可確保合適的研磨液流量，並能在不增加研磨液消耗的情況下提供穩定的性能。此外，其最優化的溝槽設計可延長30％的使用壽命，確保用戶在進行各種設備量產時獲得更低的整體成本和更高的產量。
“這次推出的兩款研磨墊，豐富了我們原有的IC1000研磨墊產品線，滿足了90納米以下級別半導體設備製造商不斷變化的生產需求，”羅門哈斯電子材料公司CMP技術事業部副總裁Cathie Markham表示。“我們並未使用其他新型研磨墊材料，而是通過先進的設計使這兩款新型研磨墊具備更長的使用壽命和更佳的性能。低缺陷率研磨墊通過應用具有突破性的溝槽技術大幅降低了產品缺陷率，而長壽命研磨墊則為用戶提供了極具競爭力的成本優勢。”
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關於羅門哈斯電子材料公司
羅門哈斯電子材料公司為光電行業開發和提供創新材料解決方案及工藝。其產品及技術主要應用於電路板、半導體製造及先進封裝行業，並已成為全球電子設備的重要組成部分。
自1969年以來，CMP技術事業部（其前身為Rodel公司）在化學機械研磨技術的研發及創新方面一直在全球半導體行業中處於領先地位。CMP技術事業部的產品包括研磨墊、鑽石碟及研磨液。CMP技術事業部的總部位於美國亞利桑那州的費尼克斯城，負責管理全球範圍內其他下屬運營機構，其中包括位於美國特拉華州紐華克市以及日本三重縣和奈良縣的製造基地。詳情請登陸以下網址查詢： https://electronicmaterials.rohmhaas.com.
關於羅門哈斯公司
自1909年以來，羅門哈斯在特種材料創新技術和解決方案的創建和開發方面一直處於全球業界領先地位。公司的創新技術和解決方案被廣泛應用於建築、電子及電子設備、家用產品及個人護理產品、包裝及造紙、交通、醫藥、水處理、食品及食品相關產業以及工業加工等領域，大大改善了全球大眾的日常生活。公司總部位於美國賓州的費城，2006年的年銷售額約為82億美元，詳情請訪問公司網站： www.rohmhaas.com。imagine the possibilities™
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