12 Jul 2007
羅門哈斯推出高級化學機械研磨（CMP）專用新型VISIONPAD™產品
新型VisionPad 3200及VisionPad 3500研磨墊在金屬研磨方面兼具軟、硬研磨墊之優點
中國上海 , 2007年7月12日 — 在全球半導體行業化學機械研磨（CMP）技術及創新方面處於領先地位的羅門哈斯電子材料公司CMP技術事業部近日宣佈其VisionPad™研磨墊系列又增添了兩款新品。這兩款產品可提供世界級的低生產缺陷率，極高的研磨能力和更長的使用壽命。
產品亮點：
• VisionPad 3200可大幅降低生產缺陷率，並具備Politex™的標準研磨能力以及更長的銅阻障層研磨壽命。這些改進設計可增加客戶所在企業的產能，提高產量，減少停工時間。
• VisionPad 3500在銅阻障層研磨方面同時具備IC1000™的研磨效果和Politex™的低缺陷率水準。此外，它還適用於鎢研磨及銅清洗作業。
VisionPad 3200及VisionPad 3500專為需要使用高級金屬加工工藝的半導體製造商設計。這兩款研磨墊應用獨特的化學研磨技術 ，可最大程度地減少晶圓上的劃痕、振紋及其他缺陷，從而提高晶粒產量。羅門哈斯在製造這兩種新型研磨墊時採用了已獲專利的聚氨酯配方，使其表面比傳統硬研磨墊更軟，可有效降低缺陷率，同時又具有必要的硬度，以確保一流的研磨性能。
VisionPad 3200及VisionPad 3500的使用壽命要長於傳統的軟研磨墊，與傳統硬研磨墊相當，因此十分方便用戶在各種研磨機平臺上均衡使用，減少因研磨墊更換或條件限制而導致的停工時間。
“這些新產品代表著我們在研磨墊製造領域主要而及時的發展動向，”羅門哈斯電子材料公司CMP技術事業部副總裁Cathie Markham表示。“目前，我們的客戶正在向更高的製造工藝和節點遷移。相應地，我們也在開發和推出特別設計的新品，以滿足客戶日益變化的研磨需求。”
與傳統的軟研磨墊不同，VisionPad 3200及VisionPad 3500的性能及配置可調。用戶可重新配置這兩款研磨墊的表面特性以獲得長期穩定的最佳研磨效果。用戶可配置範圍包括這兩款研磨墊的多溝槽，子研磨墊及粘性配置。
羅門哈斯在VisionPad產品的生產過程中應用了SPC/SQC系統，以確保該系列產品的高品質和穩定性能。目前，這兩款新品已經面市，供用戶試用。
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編輯手記
關於羅門哈斯電子材料公司
羅門哈斯電子材料公司為光電行業開發和提供創新材料解決方案及工藝。其產品及技術主要應用於電路板、半導體製造及先進封裝行業，並已成為全球電子設備的重要組成部分。
自1969年以來，CMP技術事業部（其前身為Rodel公司）在化學機械研磨技術的研發及創新方面一直在全球半導體行業中處於領先地位。CMP技術事業部的產品包括研磨墊、鑽石碟及研磨液。CMP技術事業部的總部位於美國亞利桑那州的費尼克斯城，負責管理全球範圍內其他下屬運營機構，其中包括位於美國特拉華州紐華克市以及日本三重縣和奈良縣的製造基地。詳情請登陸以下網址查詢： https://electronicmaterials.rohmhaas.com.
關於羅門哈斯公司
自1909年以來，羅門哈斯在特種材料創新技術和解決方案的創建和開發方面一直處於全球業界領先地位。公司的創新技術和解決方案被廣泛應用於建築、電子及電子設備、家用產品及個人護理產品、包裝及造紙、交通、醫藥、水處理、食品及食品相關產業以及工業加工等領域，大大改善了全球大眾的日常生活。公司總部位於美國賓州的費城，2006年的年銷售額約為82億美元，詳情請訪問公司網站： www.rohmhaas.com。imagine the possibilities™
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